KrF光刻胶是一类以KrF准分子激光（248nm）为曝光源的光刻胶，应用于130nm以上分辨率的多种半导体光刻工艺。公司产品包含多款牌号，主要牌号用于逻辑有源区，多晶硅栅极，离子注入和金属互连层以及3D NAND多频次台阶状形貌刻蚀等工艺层。具有形貌笔直，结构稳定，抗刻蚀能力强和耐热良好等特点。