ArF光刻胶是一类以ArF准分子激光（193nm）为曝光源的光刻胶，包含ArF干法光刻胶和湿法光刻胶，应用于110nm以下分辨率的多种半导体光刻工艺。公司产品适用于有源区，多晶硅栅极，接触孔以及后道金属线定义等工艺，主要应用于储（DRAM，3D NAND)和先进逻辑芯片制造。具有工艺窗口佳，分辨率高，品质稳定性强等特点。