先进封装/光通讯
半导体光刻胶
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BARC
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BARC是一类涂覆于光刻胶底部的具备抗反射能力的涂层材料，利用其吸收光线的特点抑制由衬底反射向上的光纤，抑制并消除光刻胶的驻波效应，提升光刻胶的曝光性能，覆盖从传统 365 纳米（i 线）工艺到前沿的 193 纳米浸没式工艺。具备工艺窗口可定制化、光刻胶兼容性佳以及图形保真度高等特点。